렌즈 808nmHR 1064nmHT를 집중시키는 수입된 석영 JGS1 FL=40 레이저는 비춥니다

렌즈 808nmHR 1064nmHT를 집중시키는 수입된 석영 JGS1 18.5*2mm FL=40 레이저는 비춥니다

기재 :

산출물 이름 : 레이저 초점 맞춤 렌즈

분류하세요 :18.5*2mm

길이를 집중시키세요 :40

코팅하는 것 :808nmHR 1064nmHT

폴리세드 :예

챔퍼 :0.2mm*45 급

표면 품질 :40/20

1. 주사 범위.

더 인기있는 그것이 있을 것입니다. 그러나 당신이 맹목적으로 스캐닝 영역을 증가시키면, 그것은 많은 문제를 가져올 것입니다. 예를 들면, 광점은 더 두껍게 됩니다, 왜곡이 계속 증가합니다고 그렇게.

2.초점 거리 (작업 거리 그러나 전혀 충분한 작업 거리와 관련되지 않습니다).

a. 주사 범위는 주사 범위의 증가가 필연적으로 작업 거리의 증가에 이끌 필드 거울의 초점 거리에 정비례합니다. 오랫동안 일하는 거리는 필연적으로 레이저 에너지의 손실로 이어질 것입니다.

비. 집중한 스포트의 지름은 초점 거리에 비례합니다. 이것은 스캐닝 영역이 어느 정도에 도달할 때, 획득된 광점의 직경은 매우 크고, 바꾸어 말하면, 그것이 충분히 좋지 않고, 레이저의 전력 밀도가 매우 빨리 감소하며 (전력 밀도가 스폿 직경의 그 두번째 권력에 반비례합니다), 그것이 처리에 도움이 되지 않은 것을 의미합니다.

Ｃ. 에프 쎄타 필드 거울이 Ｙ '= Ｆ * θ의 관계를 이용하여 일하기 때문에, θ과 TG θ의 실제 밸브는 다릅니다. 그리고 초점 거리 Ｆ의 증가와 함께, 왜곡은 점점 더 심각할 것입니다.

3.동작 파장.

요즈음, 1064nm과 10600nm은 대부분 시장에서 사용됩니다. 그러나, 레이저의 개발과 함께, 532 nm, 355 nm과 266 nm 필드 거울은 또한 준용을 가지고 있을 것입니다.

작용하세요 :

포커싱 미러의 주요 기능은 다음과 같습니다 :

1. 검출기에 대한 사건에 대한 갓빔의 능력은 향상됩니다 ;

2. 똑같은 주요 광학계에서, 똑같은 검출기 영역이 사용되고, 시계가 확대되고 입사 플럭스가 증가될 수 있다면, 추가적 필드 거울은 검출기 영역을 감소시킬 것입니다 ;

3. 검출기의 감광성 표면 위의 불균일 조명은 균질이 될 수 있습니다.

애플리케이션 사례 :

그것은 주로 레이저 마킹 머신, 무대 조명, 과학 실험과 레이저 계측 기구에서 사용됩니다.